全部產(chǎn)品
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- 這樣的結(jié)構(gòu)好處是提高了電流驅(qū)動能力,但壞處是當(dāng)器件關(guān)斷時,溝道很快關(guān)斷沒有了多子電流,可是Collector (Drain)端這邊還繼續(xù)有少子空穴注入,所以整個器件的電流需要慢慢才能關(guān)閉(拖尾電流, tailing current),影響了器件的關(guān)斷時間及工作頻率。這個可是開關(guān)器件的大忌啊,所以又引入了一個結(jié)構(gòu)在P+與N-drift之間加入N+buffer層,這一層的作用就是讓器件在關(guān)斷的時候,從Collector端注入的空穴迅速在N+ buffer層就被復(fù)合掉提高關(guān)斷頻率,我們稱這種結(jié)構(gòu)為PT-IGBT (Punch Through型),而原來沒有帶N+buffer的則為NPT-IGBT。電動控制系統(tǒng) 大功率直流/交流(DC/AC)逆變后驅(qū)動汽車電機;車載空調(diào)控制系統(tǒng) 小功率直流/交流(DC/AC)逆變,使用電流較小的IGBT和FRD;充電樁 智能充電樁中IGBT模塊被作為開關(guān)元件使用;
- IGBT各代之間的技術(shù)差異,要了解這個,我們先看一下IGBT的發(fā)展歷程。工程師在實際應(yīng)用中發(fā)現(xiàn),需要一種新功率器件能同時滿足:·驅(qū)動電路簡單,以降低成本與開關(guān)功耗;通態(tài)壓降較低,以減小器件自身的功耗。回顧他們在1950-60年代發(fā)明的雙極型器件SCR,GTR和GTO通態(tài)電阻很小;電流控制,控制電路復(fù)雜且功耗大;1970年代推出的單極型器件VD-MOSFET通態(tài)電阻很大;電壓控制,控制電路簡單且功耗??;因此到了1980年代,他們試圖把MOS與BJT技術(shù)集成起來的研究,導(dǎo)致了IGBT的發(fā)明。 1985年前后美國GE成功試制工業(yè)樣品(可惜后來放棄)。自此以后, IGBT主要經(jīng)歷了6代技術(shù)及工藝改進(jìn)。
- IGBT模塊按封裝工藝來看主要可分為焊接式與壓接式兩類。高壓IGBT模塊一般以標(biāo)準(zhǔn)焊接式封裝為主,中低壓IGBT模塊則出現(xiàn)了很多新技術(shù),如燒結(jié)取代焊接,壓力接觸取代引線鍵合的壓接式封裝工藝。
隨著IGBT芯片技術(shù)的不斷發(fā)展,芯片的最高工作結(jié)溫與功率密度不斷提高, IGBT模塊技術(shù)也要與之相適應(yīng)。未來IGBT模塊技術(shù)將圍繞 芯片背面焊接固定 與 正面電極互連 兩方面改進(jìn)。模塊技術(shù)發(fā)展趨勢:無焊接、 無引線鍵合及無襯板/基板封裝技術(shù);內(nèi)部集成溫度傳感器、電流傳感器及驅(qū)動電路等功能元件,不斷提高IGBT模塊的功率密度、集成度及智能度。
- IGBT的開關(guān)作用是通過加正向柵極電壓形成溝道,給PNP(原來為NPN)晶體管提供基極電流,使IGBT導(dǎo)通。反之,加反向門極電壓消除溝道,切斷基極電流,使IGBT關(guān)斷。IGBT的驅(qū)動方法和MOSFET基本相同,只需控制輸入極N-溝道MOSFET,所以具有高輸入阻抗特性。當(dāng)MOSFET的溝道形成后,從P+基極注入到N-層的空穴(少子),對N-層進(jìn)行電導(dǎo)調(diào)制,減小N-層的電阻,使IGBT在高電壓時,也具有低的通態(tài)電壓。硅芯片的重直結(jié)構(gòu)也得到了急劇的轉(zhuǎn)變,先是采用非穿通(NPT)結(jié)構(gòu),繼而變化成弱穿通(LPT)結(jié)構(gòu),這就使安全工作區(qū)(SOA)得到同表面柵結(jié)構(gòu)演變類似的改善。這次從穿通(PT)型技術(shù)先進(jìn)到非穿通(NPT)型技術(shù),是最基本的,也是很重大的概念變化。這就是:穿通(PT)技術(shù)會有比較高的載流子注入系數(shù),而由于它要求對少數(shù)載流子壽命進(jìn)行控制致使其輸運效率變壞。